Аннотация:Представлены результаты моделирования воздействия атомов и ионов Ar низкой энергии на поверхность low-k диэлектрика с использованием метода теории функционала плотности. Исследован механизм удаления CH3-групп с поверхности материала под воздействием атомов и ионов Ar; получены оценки пороговой энергии данного процесса.