Аннотация:Предмет исследования. Оригинальный метод обработки поверхности высокодобротных кристаллических оптических микрорезонаторов c модами типа шепчущей галереи путем химикомеханической полировки на примере микрорезонаторов из фторида магния с возможностью использования метода как для хрупких, так и для мягких материалов. Цель работы заключалась в разработке нового эффективного метода обработки поверхности кристаллических микрорезонаторов c модами типа шепчущей галереи, основанного на асимптотической химикомеханической полировке. Метод. Изготовленные методом алмазного точения резонаторы из фторида магния полировались методом химикомеханической полировки. Для определения численной взаимосвязи значений добротности и шероховатости обе величины измерены независимыми методами: шероховатость — с использованием интерференционного микроскопа, добротность — посредством определения полуширины резонансного провала мощности при критической связи. Отдельное внимание уделено изучению свойств полирующей суспензии, для чего перед началом полировки определялось распределение частиц суспензии по их размеру методом динамического рассеяния света и с помощью сканирующего электронного микроскопа. Основные результаты. Разработан и успешно применен оригинальный метод обработки поверхности высокодобротных кристаллических оптических микрорезонаторов c модами типа шепчущей галереи, позволяющий сократить время полировки минимум в три раза. Продемонстрировано, что предложенный метод обеспечивает изготовление резонаторов с малым радиусом, сохраняя их форму без изменений, с добротностью не ниже $10^9$. Шероховатость поверхности образующей резонатора послехимикомеханической полировки составила порядка 5 нм, что соответствует 1–1,5 элементарным ячейкам кристалла. Практическая значимость. Применение метода химикомеханической полировки способствует сокращению времени полировки и улучшению качества поверхности структур со сложной формой, а в перспективе позволит автоматизировать процесс изготовления микрорезонаторов.