Аннотация:Разработка и оптимизация методов создания функциональных элементов микронных и суб-микронных размеров для фотонных интегральных схем является одной из основных задач на-нофотоники. В настоящее время активно развивается метод двухфотонной лазерной литогра-фии (ДФЛЛ), позволяющий формировать трехмерные структуры с субволновым разрешением.В данной работе продемонстрированы результаты по развитию этого метода и показано, чтоиспользование оптимизированных схем печати, пространственной фильтрации используемоголазерного излучения, введение в полимер лазерных красителей приводит как к формированиюоптически однородных и качественных объемных микрострутур с характерными особенностямивплоть до 300 нм, так и приданию им функциональных свойств. Возможности данного оптимизи-рованного метода ДФЛЛ продемонстрированы на примере кольцевых микрорезонаторов и рас-положенных над подложкой оптических волноводов с призменными адаптерами ввода/выводаизлучения. Оптические потери при заведении излучения в волновод на длине волны 405 нм спомощью напечатанного призменного адаптера составили не более 1.25 дБ.