Аннотация:Создан радиационно стойкий оптический материал на основе кристалла CaF2 с примесью ионовYb3+, способный сохранять оптическую прозрачность в условиях воздействия γ-радиации до 108 Гр.Данный материал представляет прикладной интерес для использования в качестве оптических элементов устройств, работающих в условиях воздействия жесткого ионизирующего излучения. Рассмотрены явления образования центров окраски и фотоионизации в выращенных в графитовыхтиглях методом горизонтальной направленной кристаллизации кристаллах CaF2 с примесью трехвалентных редкоземельных ионов Ce3+, Pr3+, Eu3+, Yb3+ при воздействии различных видов ионизирующих излучений. Изменения интенсивностей пиков полос в спектрах поглощения свидетельствуют, что наводимые γ-облучением в результате радиационного дефектообразования центрыокраски практически полностью исчезают при последующем воздействии УФ-света в результатепроцессов фотоионизации.