Аннотация:Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии исследован процесс восстановления поверхности высшего оксида Nb2O5 в результате облучения ионами инертного газа (Ar+) и ионами химически активного газа (O2+) с энергией 1 и 3 кэВ в условиях высокого вакуума при комнатной температуре. Обнаружено, что при бомбардировке ионами Ar+ в поверхностных слоях оксида Nb2O5 образуется низший оксид NbO и промежуточный оксид NbO2. Бомбардировка ионами O2+ приводит к образованию в поверхностных слоях оксида Nb2O5 только очень незначительного количества промежуточного оксида NbO2. Установлено, что процесс ионно-лучевого восстановления поверхности оксида Nb2O5 зависит от типа иона, дозы и энергии облучения.