Diffusion in glasses used for production of siliconстатья

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.

Работа с статьей


[1] Kreisberg V. A., Spivakova N. Y. Diffusion in glasses used for production of silicon // Proceedings of the XVII International Congress on Glass, 9-14 October, 1995, Beijing, China. — Vol. 3. — Chinese Ceramic Society, Beijing, China, 1995. — P. 51–56. Gas release from silica glasses of crucibles for silicon crystal growth has been researched by mass spectrometry. The basic impurity in all investigated glasses is water (structural OH-groups and molecular water). Diffusion coefficients for the evolution water impurity have been determined at 800-1400 C. Silica glasses used for manufacture of large single silicon crystals should be characterized by the minimal water and gas content and by the minimal diffusion coefficient.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть