|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Локальное лазерное окисление фотонных кристаллов на основе пористого кремниястатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКДата последнего поиска статьи во внешних источниках: 20 июня 2024 г.
- Авторы: Кузнецов Л.Г., Пышков Н.И., Свяховский С.Е.
- Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
- Том: 49
- Номер: 16
- Год издания: 2023
- Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 25
- Последняя страница: 28
- DOI: 10.21883/pjtf.2023.16.55964.19610
- Аннотация: Экспериментально и теоретически исследован процесс термического окисления фотонных кристаллов на основе пористого кремния при их облучении импульсным волоконным лазером. При помощи нестационарного уравнения теплопроводности вычислены поглощаемая мощность лазерного излучения в пористом кремнии и максимальная температура нагрева. Степень окисления кремния оценена экспериментально путем измерения спектрального сдвига кривой отражения фотонных кристаллов. Показано, что при помощи лазерного облучения можно контролируемо смещать фотонную запрещенную зону фотонных кристаллов из пористого кремния. Ключевые слова: пористый кремний, фотонные кристаллы, локальное лазерное окисление, лазерная обработка поверхности.
- Добавил в систему: Свяховский Сергей Евгеньевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|