|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Влияние давления прессования на чувствительность к удару фоторезиста Продукта 451статья
- Авторы: Игамбердиев Т.Б., Гаджиев Г.Г., Васин А.Я.
- Сборник: Сборник трудов секции № 10 ХХXIII Международной научно-практической конференции
- Год издания: 2023
- Место издания: Академия гражданской защиты Министерства Российской Федерации по делам гражданской обороны, чрезвычайным ситуациям и ликвидации последствий стихийных бедствий имени генерал-лейтенанта Д.И. Михайлика, 2023 Химки
- Первая страница: 136
- Последняя страница: 141
- Аннотация: В статье рассмотрены вопросы чувствительности к удару фоторезиста Продукта 451 после прессования до различных давлений. Исследования велись с использованием стандартных методик (ГОСТ 4545-88), а также методом критических давлений. Показано, что вещество чувствительно к удару, однако при прессовании до давлений свыше 20 МПа чувствительность пропадает. Продукт 451 темнеет при прессовании, становясь малиновым при 100 МПа и черным начиная с 300 МПа. При этом структурных изменений в веществе не происходит, что подтверждено ИК-спектроскопией. При определенных условиях чувствительность к удару возвращается при растирании образца.
- Добавил в систему: Гаджиев Гарун Гамзатович