|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Sputter deposition of silicide films: a computer simulationтезисы доклада
- Авторы: Fritzsch B., Samoylov V.N., Zehe A.
- Сборник: Proceedings of 9th Conference on High Vacuum, Interfaces and Thin Films
- Том: 1
- Тезисы
- Год издания: 1988
- Место издания: Dresden, Germany
- Первая страница: 191
- Добавил в систему: Самойлов Владимир Николаевич