Устойчивость органосиликатных low-k диэлектриков с бензольными мостиками к воздействию вакуумного ультрафиолетового излучения плазмы в процессе нанесения Ta барьерного покрытия

Паль, А.Ф.; Рябинкин, А.Н.; Серов, А.О.; Рахимова, Т.В.; Вишневский, А.С.; Серегин, Д.С.; Воротилов, К.А.; Бакланов, М.Р.

Авторы: Паль А.Ф., Рябинкин А.Н., Серов А.О., Рахимова Т.В., Вишневский А.С., Серегин Д.С., Воротилов К.А., Бакланов М.Р.
Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
Том: 50
Номер: 4
Год издания: 2024
Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
Местоположение издательства: Москва
Первая страница: 34
Последняя страница: 38
DOI: 10.61011/PJTF.2024.04.57099.19711
Аннотация: Исследована устойчивость периодических мезопористых органосиликатных low-k диэлектриков с бензольными мостиками к воздействию вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) излучения плазмы при осаждении танталовых барьерных покрытий методом магнетронного распыления с дополнительной ионизацией индукционным высокочастотным разрядом. Обнаружена корреляция состава и особенностей пористой структуры образцов с их гидрофобностью и устойчивостью к ВУФ излучению.
Добавил в систему: Рябинкин Алексей Николаевич

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ИНХС РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИСТИНА ИНХС РАН

Прикрепленные файлы