|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Thin Film Deposition by Means of Laser Ablation of Titanium Oxides Targets in Oxygen Radiofrequency Electrode Plasmaстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 23 ноября 2017 г.
- Авторы: Shakhatov V.A., Gordeyev O.A.
- Журнал: High Energy Chemistry
- Том: 42
- Номер: 2
- Год издания: 2007
- Издательство: Pleiades Publishing, Ltd
- Местоположение издательства: Road Town, United Kingdom
- Первая страница: 141
- Последняя страница: 144
- DOI: 10.1134/S001814390802015X
- Добавил в систему: Шахатов Вячеслав Анатольевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | HEC141.pdf | 270,1 КБ | 18 июля 2017 [shakhatov@ips.ac.ru] |