|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Investigation of Parameters of Low Pressure Capacitive RF Discharge Used for Processing of Productsстатья
- Авторы: Shishkin A.G., Shishkin G.G.
- Сборник: Proceedings of XXVII International Conference on Phenomena in Ionized Gases
- Год издания: 2005
- Место издания: Eindhoven
- Первая страница: №06-047
- Добавил в систему: Шишкин Алексей Геннадиевич