Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Influence of Ar and NH<sub>3</sub> Plasma Treatment on Surface of Poly(monochloro-para-xylylene) Dielectric Films Processed in Oxygen Plasma
статья
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Shutov Dmitriy A.
,
Seung-Youl Kang
,
Kyu-Ha Baek
,
Soo Suh Kyung
,
Kwang-Ho Kwon
Журнал:
Japanese Journal of Applied Physics
Том:
47
Номер:
8S2
Год издания:
2008
Издательство:
Institute of Pure and Applied Physics
Местоположение издательства:
Japan
Первая страница:
6970
Последняя страница:
6970
DOI:
10.1143/jjap.47.6970
Добавил в систему:
Шутов Дмитрий Александрович