Структурные изменения в поверхностных слоях сапфира при длительной экспозиции в высокочастотном разряде в смеси H2-Ne

Городецкий, А.Е.; Маркин, А.В.; Буховец, В.Л.; Рыбкина, Т.В.; Залавутдинов, Р.Х.; Захаров, А.П.; Мухин, Е.Е.; Раздобарин, А.Г.

Авторы: Городецкий А.Е., Маркин А.В., Буховец В.Л., Рыбкина Т.В., Залавутдинов Р.Х., Захаров А.П., Мухин Е.Е., Раздобарин А.Г.
Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
Том: 50
Номер: 21
Год издания: 2024
Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
Местоположение издательства: Москва
Первая страница: 15
Последняя страница: 18
Аннотация: Исследованы изменения в структуре поверхностных слоев и пр опускании света после ионного распыления пластин сапфира в высокочастотном разряде в смеси 77%H2-23%Ne. После удаления слоя толщиной 270 nm первичные внутренние напряжения сохранились, но в по верхностном слое толщиной до 40 μm произошли развороты отдельных блоков и выход их из брэгговского положения. Состав поверхностного слоя толщиной 1−2 nm соответствовал соединению α-Al2O3. Пропускание света в интервале длин волн 400−1000nm осталось неизменным. Стабильность светопропускания пластин Al2O3 позволяет использовать сапфир в качестве окна для защиты первого зеркала систем сбора света оптических диагностик плазмы в термоядерных установках и токамаке ИТЭР.
Добавил в систему: Буховец Валентин Леонидович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ИНХС РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИСТИНА ИНХС РАН

Структурные изменения в поверхностных слоях сапфира при длительной экспозиции в высокочастотном разряде в смеси H2-Neстатья