Аннотация:Рассмотрено анизотропное травление углеродных наностенок водородом
в процессе синтеза в плазме разряда постоянного тока. Данный эффект при-водит к появлению дефектов в нижней части боковой поверхности наностенок в процессе их вертикального роста. На основе теоретической модели разряда показано, что уменьшению интенсивности подобного травления сопутствует
увеличение концентраций таких углеводородных радикалов, как C, CH, CH2,C2H, C3, C3H, что указывает на их возможную роль в так называемом процессе ”залечивания“ вакансий в структуре наностенок. Кроме того, показано, что увеличение температуры синтеза также может способствовать уменьшению
интенсивности травления.