|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Влияние экспозиции в высокочастотном разряде в смеси Н2−Ne на топографию поверхности и светопропускание сапфирастатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Городецкий А.Е., Буховец В.Л., Маркин А.В., Залавутдинов Р.Х., Захаров А.П., Рыбкина Т.В., Позин С.И., Кабанова В.А., Графов О.Ю., Мухин Е.Е., Раздобарин А.Г.
- Журнал: Журнал технической физики
- Том: 95
- Номер: 11
- Год издания: 2025
- Издательство: Наука
- Местоположение издательства: СПб.
- Первая страница: 2113
- Последняя страница: 2124
- Переводные версии: Influence of RF discharge in H2−Ne mixture on surface topography and light transmission of sapphire
- DOI: 10.61011/PJTF.2024.21.58952.20016
- Аннотация: Исследованы три варианта воздействия разряда на топографию поверхности и стабильность светопропускания сапфирового окна. Рассмотрено влияние длительного воздействия чистящего разряда в смеси 77%H2−23%Ne на поверхностность. Проанализированы изменения в структуре поверхностных слоев сапфира, сформированных при длительной экспозиции в высокочастотном (ВЧ) разряде, после удаления в плазме ВЧ разряда тонких пленок. Исследованы изменения в структуре поверхностных слоев сапфира после трехкратного осаждения и последующего удаления плазмой ВЧ разряда пленок Al.
- Добавил в систему: Буховец Валентин Леонидович