Фотоуправляемая магниторезонансная пластичность γ-облученных кристаллов KCl:Fe, Письма в ЖЭТФстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 5 июня 2017 г.
Аннотация:Обнаружено фотоуправляемое резонансное уменьшение микротвердости, вызванное приложением взаимно перпендикулярных постоянного и микроволнового магнитных полей в γ -облученных кристаллах KCl:Fe. Установлено, что магнитопластичность кристаллов γ -KCl:Fe, не подвергавшихся фотоэкспозиции, обусловлена резонансным влиянием магнитных полей на два типа примесных центров: 1) центры, содержащие ионно-вакансионные пары Fe2+-vc, 2) центры, содержащие ионы Fe+. Освещение кристаллов γ -KCl:Fe F-светом (с длиной волны λ = 500-600 нм) приводит к перестройке спектра электронного парамагнитного резонанса, детектируемого по изменению микротвердости. Влияние F-света на спектры магниторезонансной пластичности заключается в подавлении спектров ионов Fe2+-vc с эффективными g-факторами 7.0 и 3.5 в результате их рекомбинации с F-электронами и восстановления до центров Fe+ c g-факторами 2.2 и 4.1.