Влияние внешнего магнитного поля на эффективность поглощения высокочастотной мощности в пространственно ограниченном индуктивном источнике плазмыстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:В работе представлены результаты измерений эквивалентного сопротивления плазмы в вы-
сокочастотном индуктивном источнике плазмы диаметром 46 см при изменении величины
индукции внешнего магнитного поля от 0 до 50 Гс, выполненные на рабочих частотах 2, 4
и 13,56 МГц и фиксированной мощности ВЧ-генератора в диапазоне 100–500 Вт. Экспери-
менты проводились с использованием аргона в диапазоне давлений 0,1–30 мТорр. При наложе-
нии внешнего магнитного поля были обнаружены области резонансного поглощения ВЧ-
мощности, соответствующие условиям резонансного возбуждения связанных между собой
геликонов и косых ленгмюровских волн. Показано, что наложение на разряд внешнего магнит-
ного поля, соответствующего областям резонансного поглощения ВЧ-мощности при рабочих
частотах более 2 МГц, позволяет оптимизировать поглощение ВЧ-мощности плазмой.
Эффект увеличивается с ростом рабочей частоты