|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Mechanism of copper underpotential deposition at pt(hkl)-electrodes: quantum-chemical modellingстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 6 февраля 2018 г.
- Авторы: Danilov A.I., Molodkina E.B., Rudnev A.V., Polukarov Yu M., Nazmutdinov R.R., Zinkicheva T.T., Feliu J.M.
- Журнал: Russian Journal of Electrochemistry
- Том: 44
- Год издания: 2008
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 697
- Последняя страница: 708
- Добавил в систему: Молодкина Елена Борисовна