ИСТИНА

Choi C.K.

Соавторы: Плаксин В.Ю., Рябый В.А., H-J L., Kim J.H., Lee H.J., Mok Y.S., Александров А.Ф., Савинов В.П.

2 статьи

IstinaResearcherID (IRID): 15225448

Деятельность

• Статьи в журналах

  • • 2006 Application of a high durability DC arc plasmatron to plasma processing of silicon substrates
    • Riaby V.A., Plaksin V.Yu, Kim J.H., Mok Y.S., H-J Lee, Choi C.K.
    • в журнале Journal of Korean Forest Society, том 48, № 6, с. 1696-1701

• Статьи в сборниках

  • • 2006 Fractional Diversion of Discharge Current into Conductive Bodies in Contact with Plasmas
    • Alexandrov A.F., Lee H.J., Choi C.K., Plaxin V.Yu, Riaby V.A., Savinov V.P.
    • в сборнике Conference Papers of Intern. Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, место издания China