Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
В связи с техническими работами в центре обработки данных, возможность загрузки и скачивания файлов временно недоступна.
скрыть
Baklanov M.R.
Соавторы:
Рахимова Т.В.
,
Лопаев Д.В.
,
Манкелевич Ю.А.
,
Зырянов С.М.
,
Рахимов А.Т.
,
Зотович А.И.
,
Васильева А.Н.
,
Ковалев А.С.
,
Прошина О.В.
,
Брагинский О.В.
,
Палов А.П.
,
Vorotilov K.A.
,
de Marneffe J.
показать полностью...
,
Malykhin E.M.
,
Воронина Е.Н.
,
Курчиков К.А.
,
Резванов А.А.
,
Braginsky O.V.
,
Malykhin E.M.
,
Naumov S.
,
Samara V.
,
Seregin D.S.
,
Vishnevskiy A.S.
,
Wang S.
,
el O.Z.
,
Богданова М.А.
,
Волошин Д.Г.
,
Паль А.Ф.
,
Рябинкин А.Н.
,
Серегин Д.С.
,
Серов А.О.
,
Afanas'ev V.V.
,
Attallah A.G.
,
Butterling M.
,
Dolbak A.E.
,
Felim V.
,
Gismatulin A.A.
,
He P.
,
Heyne M.H.
,
Hirschmann E.
,
Ho P.S.
,
Huang T.H.
,
Jousseaume V.
,
Krishtab M.B.
,
Lazzarino F.
,
Liedke M.O.
,
Liping Z.
,
Novikova N.N.
,
Otell Z.e.
,
Perevalov T.V.
,
Rakhlinsky V.V.
,
Sergej
,
Shi H.
,
Shi X.
,
Shohet J.L.
,
Urbanowicz A.M.
,
Vishnevskiy A.
,
Vorotilov K.
,
Vorotyntsev D.A.
,
Wagner A.
,
Xin-Ping Q.
,
Yingjie W.
,
Yiting S.
,
de Gendt S.
,
de Marneffe J.F.
,
Маслаков К.И.
,
Мяконьких А.В.
,
Пустоваров В.А.
,
Руденко К.В.
,
Трофимова Е.С.
32 статьи
,
13 докладов на конференциях
Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 279, Scopus: 318
IstinaResearcherID (IRID): 2467527
Деятельность
Статьи в журналах
2022
Damage to OSG low‐ k films during IPVD deposition of the Ta barrier layer
Serov Alexander O.
,
Ryabinkin Alexey N.
,
Vishnevskiy Alexey S.
,
Naumov Sergej
,
Pal Alexander F.
,
Rakhimova Tatyana V.
,
Seregin Dmitry S.
,
Vorotilov Konstantin A.
,
Baklanov Mikhail R.
в журнале
Plasma Processes and Polymers
, издательство
Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
(Germany)
DOI
2022
Effect of H atoms and UV wideband radiation on cured low-k OSG films
Lopaev Dmitry
,
Zotovich Alexey
,
Zyryanov S.M.
,
Bogdanova Maria
,
Rakhimova T.V.
,
Mankelevich Yu A.
,
Novikova N.N.
,
Seregin Dmitry S.
,
Vishnevskiy Alexey
,
Vorotilov Konstantin
,
Shi Xiaoping
,
Baklanov Mikhail
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 55, № 25, с. 255206
DOI
2022
Modification of Porous Ultralow-k Film by Vacuum Ultraviolet Emission
Zotovich Alexey I.
,
Zyryanov Sergey M.
,
Lopaev Dmitry V.
,
Rezvanov Askar A.
,
Attallah Ahmed G.
,
Liedke Maciej O.
,
Butterling Maik
,
Bogdanova Maria A.
,
Vishnevskiy Alexey S.
,
Seregin Dmitry S.
,
Vorotyntsev Dmitry A.
,
Palov Alexander P.
,
Hirschmann Eric
,
Wagner Andreas
,
Naumov Sergej
,
Vorotilov Konstantin A.
,
Rakhimova Tatyana V.
,
Rakhimov Alexander T.
,
Baklanov Mikhail R.
в журнале
ACS Applied Electronic Materials
, издательство
American Chemical Society
(United States)
, том 4, № 6, с. 2760-2776
DOI
2021
Charge Transport Mechanism and Trap Origin in Methyl-Terminated Organosilicate Glass Low-κ Dielectrics
Perevalov T.V.
,
Gismatulin A.A.
,
Dolbak A.E.
, Gritsenko V.A.,
Trofimova E.S.
,
Pustovarov V.A.
, Seregin D.S.,
Vorotilov K.A.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
, издательство
Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
(Germany)
, том 218, № 4
DOI
2020
Evaluation of Mechanical Properties of Porous OSG Films by PFQNM AFM and Benchmarking with Traditional Instrumentation
Ovchinnikov I.S., Vishnevskiy A.S.,
Seregin D.S.
,
Rezvanov A.A.
, Schneider D., Sigov A.S.,
Vorotilov K.A.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Langmuir
, издательство
American Chemical Society
(United States)
, том 36, № 32, с. 9377-9387
DOI
2020
VUV radiation flux from argon DC magnetron plasma
Pal Alexander Fridrikhovich
,
Ryabinkin Alexey Nikolaevich
,
Serov Alexander Olegovich
,
Lopaev Dmitry
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimov A.T.
,
Rakhimova T.V.
,
Baklanov Mikhail
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 53, № 29, с. 295202
DOI
2019
Impact of VUV photons on SiO2 and organosilicate low-k dielectrics: General behavior, practical applications, and atomic models
Baklanov M.R.
,
Jousseaume V.
,
Rakhimova T.V.
,
Lopaev D.V.
,
Mankelevich Yu A.
,
Afanas'ev V.V.
,
Shohet J.L.
,
King S.W.
, Ryan E.T.
в журнале
APPLIED PHYSICS REVIEWS
, том 6, № 1, с. 011301
DOI
2018
A non-destructive, fast evaluation of PVD diffusion barriers deposited on porous low-k dielectrics
Yingjie Wang
,
Peng He
,
Jing Zhang
, Jiang Yan,
Lopaev D.V.
,
Xin-Ping Qu
,
Baklanov M.R.
в журнале
Microelectronic Engineering
, издательство
Elsevier BV
(Netherlands)
, том 198, с. 22
DOI
2018
Silicon dioxide and low-k material sputtering in dual frequency inductive discharge by argon ions with energies from 16 to 200 eV
Lopaev D.V.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Zotovich A.I.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 51, № 2, с. 02LT02
DOI
2018
Synergistic effect of VUV photons and F atoms on damage and etching of porous organosilicate film
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Zotovich A.I.
,
Rakhimova T.V.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimov A.T.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Plasma Processes and Polymers
, издательство
Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
(Germany)
, с. e1700213
DOI
2017
Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmas
Rezvanov Askar
,
Miakonkikh Andrey V.
, Vishnevskiy Alexey S.,
Rudenko Konstantin V.
,
Baklanov Mikhail R.
в журнале
Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics
, том 35, № 2, с. 021204
DOI
2017
Damage and etching of ultra low-k materials in fluorocarbon plasma at lowered temperatures
Lopaev D.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Zotovich Alexey
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov Mikhail R.
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 50, с. 485202
DOI
2017
Experimental and DFT study of nitrogen atoms interactions with SiOCH low-k films
Voronina E.N.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Zotovich A.I.
,
Baklanov M.R.
в журнале
European Physical Journal D
, издательство
Springer Verlag
(Germany)
, том 71, с. 111
DOI
2017
Fluorine atoms interaction with the nanoporous materials: experiment and DFT simulation
Mankelevich Yu A.
,
Voronina E.N.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в журнале
European Physical Journal D
, издательство
Springer Verlag
(Germany)
, том 71, № 5, с. 126
DOI
2017
Photoabsorption and damage of OSG low-k films by VUV emission at 140-160 nm
Lopaev D.V.
,
Rakhlinsky V.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Kurchikov K.A.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Plasma Processes and Polymers
, издательство
Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
(Germany)
, с. e1700166
DOI
2016
Comparison of vacuum ultra-violet emission of Ar/CF4and Ar/CF3I capacitively coupled plasmas
Zotovich A.
,
Proshina O.
,
el Otell Z.
,
Lopaev D.
,
Rakhimova T.
,
Rakhimov A.
,
de Marneffe J.F.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Plasma Sources Science and Technology
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 25, № 5, с. 055001
DOI
2016
Multi-step reactions mechanism for F atoms interactions with organosilicate glass and SiOx films
Mankelevich Yu A.
,
Voronina E.N.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 49, № 34, с. 345203
DOI
2016
Surface-confined Activation of Ultra Low-k Dielectrics in CO2 Plasma
Yiting Sun, Mikhail Krishtab,
Yuri Mankelevich
, Liping Zhang, Steven De Feyter,
Mikhail Baklanov
, Silvia Armini
в журнале
Applied Physics Letters
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 108, с. 262902
DOI
2015
Experimental and theoretical study of RF capacitively coupled plasma in Ar–CF4–CF3I mixtures
Proshina O.V.
,
Rakhimova T.V.
,
Lopaev D.V.
,
Samara V.
,
Baklanov M.R.
,
de Marneffe J-F
в журнале
Plasma Sources Science and Technology
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 24, с. 055006
DOI
2015
Interaction of F atoms with SiOCH ultra low-k films Part II: etching
Rakhimova T.V.
,
Lopaev D.V.
,
Mankelevich Y.A.
,
Kurchikov K.A.
,
Zyryanov S.M.
,
Palov A.P.
,
Proshina O.V.
,
Maslakov K.I.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 48, № 17, с. 175204-(14pp)
DOI
2015
Vacuum ultra-violet emission of CF4 and CF3I containing plasmas and Their effect on low-k materials
el Otell Z.
,
Šamara V.
,
Zotovich A.
, Hansen T.,
de Marneffe J.F.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Physics D - Applied Physics
, издательство
IOP Publishing
([Bristol, UK], England)
, том 48, № 39, с. 395202
DOI
2014
Improved Plasma Resistance for Porous Low-k Dielectrics by Pore Stuffing Approach
Liping Zhang
,
de Marneffe Jean-Francois
,
Heyne Markus H.
,
Sergej Naumov
,
Yiting Sun
,
Alexey Zotovich
,
Otell Ziad el
,
Felim Vajda
,
Stefan De Gendt
,
Baklanov Mikhail R.
в журнале
ECS Journal of Solid State Science and Technology
, издательство
Electrochemical Society, Inc.
(United States)
, том 4, № 1, с. 3098-3107
DOI
2013
Modification of organosilicate glasses low-k films under extreme and vacuum ultraviolet radiation
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Mankelevich Yu A.
,
Lopaev D.V.
,
Kovalev A.S.
,
Vasil’eva A.N.
,
Proshina O.V.
,
Braginsky O.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Kurchikov K.
, Novikova N.N.,
Baklanov M.R.
в журнале
Applied Physics Letters
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 102, № 11, с. 111902
DOI
2013
Plasma processing of low-k dielectrics
Baklanov Mikhail R.
,
de Marneffe Jean-Francois
, Shamiryan Denis,
Urbanowicz Adam M.
,
Shi Hualiang
,
Rakhimova Tatyana V.
,
Huang Huai
,
Ho Paul S.
в журнале
Journal of Applied Physics
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 113, № 4
DOI
2012
Ultra low-k dielectrics damage under VUV and EUV radiation
Sergey Zyryanov
,
Oleg Braginsky
,
Alexander Kovalev
,
Dmitry Lopaev
,
Yury Mankelevich
,
Tatyana Rakhimova
,
Alexander Rakhimov
,
Anna Vasilieva
,
Mikhail Baklanov
в журнале
Bulletin of the American Physical Society, 65th Annual Gaseous Electronics Conference
, том 57, № 8
2011
The Effect of He Plasma Treatment on Properties of Organosilicate Glass Low-K Films
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Malykhin E.M.
,
Mankelevich Yu A.
,
Proshina O.V.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Voloshin D.G.
,
Vasilieva A.N.
,
Zyryanov S.M.
, Smirnov E.A.,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Applied Physics
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 109, № 4, с. 043303
DOI
2010
The Mechanism of Low-K SiOCH Film Modification by Oxygen Atoms
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Malykhin E.M.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Vasilieva A.N.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Journal of Applied Physics
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 108, № 7, с. 073303
DOI
2009
The influence of He plasma pretreatment on O and H atom interaction with low-k nanoporous materials
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Malykhin E.M.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Vasilieva A.N.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в журнале
Bulletin of the American Physical Society, 62nd Annual Gaseous Electronics Conference
, том 54, № 12
Статьи в сборниках
2014
The chemistry screening for ultra low-k dielectrics plasma etching
Zotovich A.
,
Krishtab M.
,
Lazzarino F.
,
Baklanov M.R.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 944002-1-944002-10
DOI
2013
Effects of VUV and EUV Radiation on Ultra Low-k Materials Damage
Oleg Braginsky
,
Alexander Kovalev
,
Dmitry Lopaev
,
Yury Mankelevich
,
Olga Proshina
,
Tatyana Rakhimova
,
Alexander Rakhimov
,
Anna Vasilieva
,
Sergey Zyryanov
,
Mikhail Baklanov
в сборнике
MRS Online Proceedings Library
, издательство
Cambridge University Press
(United Kingdom)
, том 1559, с. mrss13-1559-aa03-11
DOI
2009
Interaction of О and Н Atoms with Low-K SiOCH Films Pretreated in He Plasma
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Mankelevich Y.A.
,
Malykhin E.M.
,
Proshina O.V.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Vasilieva A.N.
,
Voloshin D.G.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в сборнике
Materials Research Society Symposium Proceedings
, место издания
Materials Research Society
, том 1156
DOI
2008
Recombination Probabilities of О and Н Atoms on the Surface of Nanoporous Low-K SiOCH Dielectrics
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Malykhin E.M.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Vasilieva A.N.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
в сборнике
Proceedings of Advanced Metallization Conference (AMC), September 23-25 2008, San Diego California, USA, and October 8-10 2008, Tokyo, Japan
, место издания
San Diego California, USA, and Tokyo, Japan
Доклады на конференциях
2019
Процессы взаимодействия плазмы с нанопористыми пленками с низкой диэлектрической проницаемостью
(Устный)
Авторы:
Зырянов С.М.
,
Рахимов А.Т.
,
Бакланов М.Р.
Научный семинар "Системы металлизации" Научно-исследовательского института молекулярной электроники (АО "НИИМЭ")
, Москва, Россия, 27 марта 2019
2016
Multi-step reactions mechanism of F and N atoms interactions with SiOCH low-k films
(Стендовый)
Авторы:
Mankelevich Yu A.
,
Voronina E.N.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
XXI European Conference on Dynamics of Molecular Systems (MOLEC 2016)
, Toledo, Испания, 11-16 сентября 2016
2016
Experimental and ab initio study of nitrogen atoms interaction with SiOCH low-k films
(Стендовый)
Авторы:
Mankelevich Yu A.
,
Voronina E.N.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Zotovich A.I.
,
Baklanov M.R.
International Conference on Many Particle Spectroscopy of Atoms, Molecules, Clusters and Surfaces (MPS2016)
, Москва, Россия, 23-26 августа 2016
2016
Fluorine atoms interaction with the nanoporous materials: Experiment and ab initio simulation
(Устный)
Авторы:
Mankelevich Yu A.
,
Voronina E.N.
,
Rakhimova T.V.
,
Palov A.P.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
International Conference on Many Particle Spectroscopy of Atoms, Molecules, Clusters and Surfaces (MPS2016)
, Москва, Россия, 23-26 августа 2016
2016
Ultra low-k etching by neutral beams produced from CF4/Ar and SF6/Ar ICP plasmas
(Стендовый)
Авторы:
Alexey Zotovich
,
Otell Ziad el
,
Yvonne Sutton
,
Braithwaite N.St J
,
de Marneffe Jean-Francois
,
Mikhail Baklanov
PESM 2016
, Франция, 9-10 мая 2016
2015
Interaction of atomic fluorine with porous low-k SiOCH films: modeling
(Стендовый)
Авторы:
Palov A.
,
Voronina E.
,
Lopaev D.
,
Mankelevich Yu
,
Rakhimova T.
,
Zyryanov S.
,
Proshina O.
,
Baklanov M.
ISPC 2015 22nd International Symposium on Plasma Chemistry
, Антверпен, Бельгия, 5-10 июля 2015
2015
Low-k OSG damage and etching by F atoms at lowered temperatures
(Стендовый)
Авторы:
Zyryanov S.
,
Kurchikov K.
,
Lopaev D.
,
Mankelevich Yu
,
Palov A.
,
Rakhimova T.
,
Voronina E.
,
Novikova N.
,
Baklanov M.
ISPC 2015 22nd International Symposium on Plasma Chemistry
, Антверпен, Бельгия, 5-10 июля 2015
2015
Comparison between Vacuum Ultra-Violet emission of CF4/Ar and CF3I/Ar plasmas in CCP chamber for low-k etching
(Стендовый)
Авторы:
Zotovich Alexey I.
,
Otell Ziad el
,
de Marneffe Jean-Francois
,
Baklanov Mikhail R.
,
Lopaev Dmitry V.
,
Rakhimova Tatyana V.
,
Proshina Olga V.
PESM 2015
, Leuven, Бельгия, 27-28 апреля 2015
2015
Effect of VUV photons on low-k OSG damage and etching by F atoms at the lowered temperature
(Устный)
Авторы:
Rakhimova T.V.
,
Mankelevich Yu A.
,
Lopaev D.V.
,
Baklanov M.R.
,
Zyryanov S.M.
,
Zotovich A.I.
,
Kurchikov K.A.
PESM 2015
, Leuven, Бельгия, 27-28 апреля 2015
2014
Comparative analysis of the factors leading to low-k degradation during the integration process
(Устный)
Авторы:
Zotovich A.
,
Baklanov M.R.
,
Lazzarino F.
,
Krishtab M.
IC MNE 2014
, Россия, Звенигород, Россия, 2014
2014
The chemistry screening for ultra low-k dielectrics plasma etching
(Устный)
Авторы:
Krishtab M.
,
Baklanov M.R.
,
Lazzarino F.
,
Zotovich A.
IC MNE 2014
, Россия, Звенигород, Россия, 2014
2013
1-D model of RF CCP discharge in Ar/CF4/CF3I gas mixtures
(Устный)
Авторы:
Olga Proshina
,
Mihail Baklanov
,
Tatyana Rakhimova
PESM 2013 (14 - 15 March 2013, Leuven Belgium)
, Лёвен, Бельгия, 14-15 марта 2013
2013
1D model of OSG low-k films modification by EUV/VUV emission
(Устный)
Авторы:
Rakhimov A.T.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Lopaev D.V.
,
Zyryanov S.M.
,
Baklanov M.R.
,
Vasil'eva A.N.
,
Proshina O.V.
,
Braginsky O.V.
,
Kurchikov K.
,
Kovalev A.S.
PESM 2013 (14 - 15 March 2013, Leuven Belgium)
, Лёвен, Бельгия, 14-15 марта 2013