Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
В связи с техническими работами в центре обработки данных, часть прикреплённых файлов в настоящее время недоступна.
скрыть
Руденко Константин Васильевич
Соавторы:
Татаринцев А.А.
,
Мяконьких А.В.
,
Шишлянников А.В.
,
Рогожин А.Е.
,
Иешкин А.Е.
,
Gornev E.S.
,
Gushin O.
,
Kuzmenko V.O.
,
ORLIKOVSKII A.
,
Tikhonenko F.V.
,
Zarubanov A.A.
,
Кузьменко В.О.
,
Рогожин А.Е.
8 статей
,
2 доклада на конференциях
,
5 тезисов докладов
,
1 НИР
Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 3, Scopus: 13
IstinaResearcherID (IRID): 47835297
Деятельность
Статьи в журналах
2022
Investigation of plasma resistance of the HSQ electronic resist for prototyping of nanoelectronic devices
Miakonkikh A.V.
,
Shishlyannikov A.V.
,
Tatarintsev A.A.
,
Kuzmenko V.O.
,
Rudenko K.V.
,
Gornev E.S.
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, № 12157
DOI
2022
Parallel nanowire sensors with a high-k gate oxide for the sensitive operation in liquids
Popov V.P.,
Tikhonenko F.V.
, Antonov V.A.,
Zarubanov A.A.
, Gluhov A.V.,
Tatarintsev A.A.
,
Miakonkikh A.V.
,
Rudenko K.V.
в журнале
Solid-State Electronics
, издательство
Pergamon Press Ltd.
(United Kingdom)
, том 194
DOI
2021
Исследование плазмостойкости электронного резиста HSQ высокого разрешения для прототипирования приборов наноэлектроники
Мяконьких А.В.
,
Шишлянников А.В.
,
Татаринцев А.А.
,
Кузьменко В.О.
,
Руденко К.В.
, Горнев Е.С.
в журнале
Микроэлектроника
, издательство
Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука
(Москва)
, том 49, № 5, с. 333-338
DOI
2020
Hafnia and alumina stacks as UTBOXs in silicon-on insulator
Popov V.P., Antonov V.A., Gutakovskiy A.K., Tyschenko I.E., Vdovin V.I.,
Miakonkikh A.V.
,
Rudenko K.V.
в журнале
Solid-State Electronics
, издательство
Pergamon Press Ltd.
(United Kingdom)
, том 168, с. 107734
DOI
2020
The Effect of Temperature on the Development of a Contrast HSQ Electronic Resist
Tatarintsev A.A.
,
Shishlyannikov A.V.
,
Rudenko K.V.
,
Rogozhin A.E.
,
Ieshkin A.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 3, с. 151-156
DOI
2020
Влияние температуры проявления на контраст электронного резиста HSQ
Татаринцев А.А.
,
Шишлянников А.В.
,
Руденко К.В.
,
Рогожин А.Е.
,
Иешкин А.Е.
в журнале
Микроэлектроника
, издательство
Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука
(Москва)
, том 49, № 3, с. 163-169
DOI
2019
Fabrication and properties of SOI-based planar silicon nanowire arrays
Rogozhin Alexander E.
,
Miakonkikh Andrey V.
,
Tatarintsev Andrey A.
,
Rudenko K.V.
в журнале
Proc. SPIE, International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2018
, том 11022, с. 1102222
DOI
2018
Dependence of the Resistance of the Negative e-Beam Resist HSQ Versus the Dose in the RIE and Wet Etching Processes
Miakonkikh A.V.
,
Orlikovskiy N.A.
,
Rogozhin A.E.
,
Tatarintsev A.A.
,
Rudenko K.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 3, с. 157-19
DOI
Доклады на конференциях
2021
Electron beam lithography on the surface with 3D relief
(Устный)
Авторы:
Myakonkikh A.
,
Tatarintsev A.
,
Rudenko K.
ICMNE-2021
, г. Звенигород, РФ, Россия, 4-8 октября 2021
2018
E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ mask
(Устный)
Авторы:
Tatarintsev A.A.
,
Miakonkikh A.V.
,
Rudenko K.V.
,
Shishlyannikov A.
International Conference "Micro- and Nanoelectronics — 2018" (ICMNE-2018)
, Звенигород, Московская область, Россия, 1-5 октября 2018
Тезисы докладов
2021
Electron beam lithography on the surface with 3D relief
Myakonkikh A.
,
Tatarintsev A.
,
Rudenko K.
в сборнике
Proceedings of International Confernce "Micro- and Nanoelectronics - 2021" (ICMNE-2021): Book of abstracts
, издательство
ООО "МАКС Пресс"
(Москва)
, тезисы, с. O1-08
редакторы
Лукичев Владимир Федорович
,
Руденко Константин Васильевич
2020
ТЕМПЕРАТУРНАЯ ЗАВИСИМОСТЬ КОНТРАСТОВ ЭЛЕКТРОННОГО РЕЗИСТА HSQ ПРИ РАЗНЫХ МЕТОДАХ ПРОЯВЛЕНИЯ
Татаринцев А.А.
,
Шишлянников А.В.
,
Руденко К.В.
,
Рогожин А.Е.
,
Иешкин А.Е.
в сборнике
Международный форум «Микроэлектроника – 2020»: сборник тезисов
, издательство
ООО "МАКС Пресс"
(Москва)
, тезисы, с. 179-182
2018
Comparative study of the dependence of line edge roughness of resists patterns on its molecular structure
Sharapov A., Baranov G.,
Shishlyannikov A.
,
Tatarintsev A.A.
,
Gushin O.
,
Rudenko K.V.
в сборнике
Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018"
, место издания
Maks press Moscow
, тезисы, с. 178-178
2018
E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ mask
Tatarintsev A.A.
,
Miakonkikh A.V.
,
Rudenko K.V.
,
Shishlyannikov A.
в сборнике
Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018"
, место издания
Maks press Moscow
, тезисы, с. 48-48
2018
Fabrication and properties of SOI-based planar silicon nanowire arrays
Rogozhin A.
,
Miakonkikh A.
,
Tatarintsev A.A.
,
Rudenko K.V.
в сборнике
Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018"
, место издания
Maks press Moscow
, тезисы, с. 196-196
НИРы
1 мая 2016 - 31 декабря 2018
Создание источников и приемников терагерцового излучения на основе низкоразмерных пролетных диодов для контроля объектов
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт Российской академии наук
Руководитель:
Руденко К.В.
Участники НИР:
Вьюрков В.В.
,
Давыдов Ф.С.
,
Мяконьких А.В.
,
Орликовский Н.А.
,
Рогожин А.Е.
,
Руденко К.В.
,
Руденко М.К.
,
Солянкин П.М.