Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Proc. SPIE
сборник
Год издания:
1999
Серия:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XIII
Том:
3677
Место издания:
SPIE-Intl Soc Optical Eng
Добавил в систему:
Голубцов Петр Викторович
Статьи, опубликованные в сборнике
1999
Wafer mapping for stepper effects characterization
Zhang Yuan
,
Carpio Ronald A.
,
Wagner Lucian
,
Golubtsov Peter V.
в сборнике
Proc. SPIE
, серия
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XIII
, место издания
SPIE-Intl Soc Optical Eng
, том 3677, с. 250-254
DOI