Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDPA-2023): Abstracts of 16th International Conference
сборник
Год издания:
2023
Место издания:
Aeterna Ufa, Russia
ISBN:
978-5-00177-714-4
Сборник тезисов
Добавил в систему:
Шибанов Даниил Романович
Статьи, опубликованные в сборнике
2023
PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER ETCHING IN Ar/C4F8 INDUCTIVELY COUPLED PLASMA WITH O2 CLEANING STEP
SHIBANOV D.R.
,
LOPAEV D.V.
,
ZASEEV Y.G.
,
PAVLOV G.Y.
,
RAKHIMOV A.T.
в сборнике
Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDPA-2023): Abstracts of 16th International Conference
, место издания
Aeterna Ufa, Russia
, тезисы, с. G3-O-005905
2023
SPUTTERING OF AMORPHOUS Si AND SiO2 BY LOW-ENERGY Ar+ , Kr+ AND Xe+ IONS
SHIBANOV D.R.
,
LOPAEV D.V.
,
ZYRYANOV S.M.
,
ZOTOVICH A.I.
,
RAKHIMOV A.T.
в сборнике
Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDPA-2023): Abstracts of 16th International Conference
, место издания
Aeterna Ufa, Russia
, тезисы, с. G3-O-005903