Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Russian Microelectronics
журнал
Индексирование: Scopus (1 января 1970 г.-), Журналы РФ в Scopus (1 января 1970 г.-), Белый список (20 октября 2022 г.-)
Период активности журнала: не указан
Издательство:
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
Местоположение издательства:
Russian Federation
ISSN:
1063-7397 (Print), 1608-3415
Статьи, опубликованные в журнале
Страницы: << предыдущая
1
2
3
4
следующая >>
2023
Atypical Raman Scattering on Magnetic Junctions in Metallic Nanowires
Krishtop V.,
Korepanov V.
,
Fomin L.
,
Zagorskiy D.
,
Doludenko I.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № S1, с. S59-S66
DOI
2023
Comparative Study of LQU and LQFI Measures of Quantum Correlations in Two-Spin-1/2 Heisenberg Systems
Yurischev M.A.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № 1, с. S412-S418
2023
Fast Electrochemical Micropump for Portable Drug Delivery Module
Uvarov I.V.
,
Shlepakov P.S.
,
Abramychev A.M.
,
Svetovoy V.B.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № 3, с. 186-194
DOI
2023
Flux-driven Traveling-Wave Parametric Amplifier with bi-SQUIDs cells
Kornev V.K.
,
Kolotinskiy N.V.
,
Nikolaeva A.N.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № Suppl 1, с. S44-S52
DOI
2023
Magnetic Properties of Ni Nanowires in Porous Anodic Alumina Matrix
Grushevski E.A., Savinski N.G., Trushin O.S.,
Shendrikova L.A.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № S1, с. S67-S70
DOI
2023
Nonequilibrium Diagram Technique Applied to the Electronic Transport via Tightly Bound Localized States
Kopchinskii I.D.
,
Shorokhov V.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № S1, с. S337-S351
DOI
2023
Plasma Parameters and Kinetics of Reactive Ion Etching of SiO2 and Si3N4 in an HBr/Cl2/Ar Mixture
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № 2, с. 99-106
DOI
2023
Strontium Iridates as Barrier Materials for Josephson Heterostructures
Kislinskii Y.V.
,
Constantinian K.Y.
,
Moskal I.E.
,
Dubitskiy N.V.
,
Petrzhik A.M.
,
Shadrin A.V.
,
Ovsyannikov G.A.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № S1, с. S53-S58
DOI
2023
Study of topographic features, shape, and mechanical stresses in microelectronic structures using geomorphometric techniques
Dedkova A.A.
,
Florinsky I.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № S1, с. S257-S262
DOI
2023
The Influence of Small F2, H2, and HF Additives on the Concentration of Active Particles in Tetrafluoromethane Plasma
Efremov A.M., Smirnov S.A.,
Betelin V.B.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 52, № 5, с. 372-378
DOI
2022
Analysis of hydrodynamics in the synthesis of crystals from water-salt solutions
Prostomolotov A.I.
,
Verezub N.A.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 662-666
DOI
2022
On the Mechanisms Regulating the Plasma Composition and Kinetics of Heterogeneous Processes in a CF4 + CHF3 + Ar Mixture
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 5, с. 302-310
DOI
2022
Plasma Parameters and Kinetics of Reactive-Ion Etching of Silicon in a C6F12O + Ar Mixture
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 4, с. 247-254
DOI
2022
Technology and thermomechanics in growing tubular silicon single crystal
Verezub N.A.
,
Kozhitov L.V.
,
Kondratenko T.T.
,
Prostomolotov A.I.
, Silaev I.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 677-685
DOI
2022
The study of nickel impurity segregation on LSNT perovskite open surfaces by ab initio molecular dynamics
Chistyakova A.A.
,
Bazhanov D.I.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 1-5
DOI
2021
Application of the Spectral Ellipsometry Method to Study the Processes of Atomic Layer Deposition
Miakonkikh A.V.
, Smirnova E.A.,
Clemente I.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 4, с. 230-238
DOI
2021
Experimental Study of the Influence of the Porosity of Thin-Film Silicon-Based Anodes on Their Charge-Discharge Characteristics
Kulova T.L.
,
Mazaletsky L.A.
,
Mironenko A.A.
,
Rudy A.S.
,
Skundin A.M.
,
Tortseva Yu S.
,
Fedorov I.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 1, с. 44-52
DOI
2021
Mechanisms of Plasma Etching of Titanium, Indium, Tin, and Zinc Oxides in a Mixture of HBr + Ar
Efremov A.M., Smirnov S.A.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 6, с. 379-386
DOI
2021
Numerical Simulation of Cryogenic Etching: Model with Delayed Desorption
Rudenko M.K.,
Myakon’kikh A.V.
, Lukichev V.F.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 1, с. 54-62
DOI
2021
Specific Features of the Kinetics of the Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a CF4 + O2 Mixture in a Low Power Supply Mode
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 303-310
DOI
2021
Study of Spin-Tunnel Junction Magnetization Using Coherent Rotation of the Free Layer Magnetization Model
Amelichev V.V.
,
Vasiliev D.V.
,
Kostyuka Yu V Kazakov D.V.
,
Kasatkin S.I.
,
Polyakov O.P.
,
Polyakov P.A.
,
Shevtsov V.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 6, с. 461-466
DOI
2021
Study of the Plasma Resistance of a High Resolution e-Beam Resist HSQ for Prototyping Nanoelectronic Devices
Miakonkikh A.V.
,
Shishlyannikov A.V.
,
Tatarintsev A.A.
,
Kuzmenko V.O.
,
Rudenko K.V.
,
Gornev E.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 297-302
DOI
2021
Thin-Film Solid State Lithium-Ion Batteries of the LiCoO2/Lipon/Si@O@Al System
Rudy A.S.
,
Mironenko A.A.
,
Naumov V.V.
,
Fedorov I.S.
,
Skundin A.M.
,
Tortseva Yu S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 333-338
DOI
2020
Amorphization of Vanadium Oxides during the Reversible Insertion of Lithium
Skundin A.M.
,
Mironenko A.A.
,
Rudyi A.S.
,
Fedorov I.S.
,
Vasiliev S.V.
,
Mazaletsky L.A.
,
Tortseva Yu S.
,
Kuznetsov O.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 6, с. 416-422
DOI
2020
The Effect of Temperature on the Development of a Contrast HSQ Electronic Resist
Tatarintsev A.A., Shishlyannikov A.V.,
Rudenko K.V.
, Rogozhin A.E., Ieshkin A.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 3, с. 151-156
DOI
Страницы: << предыдущая
1
2
3
4
следующая >>