Наноматериалы на основе интеркалированных одностенных углеродных нанотрубок для элементов наноэлектроники нового поколенияНИР

Источник финансирования НИР

грант Президента РФ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 4 февраля 2013 г.-20 ноября 2013 г. Наноматериалы на основе интеркалированных одностенных углеродных нанотрубок для элементов наноэлектроники нового поколения
Результаты этапа:
2 1 января 2014 г.-20 ноября 2014 г. Наноматериалы на основе интеркалированных одностенных углеродных нанотрубок для элементов наноэлектроники нового поколения
Результаты этапа: Впервые получены нанокомпозиты на основе одностенных углеродных нанотрубок, заполненных галогенидами металлов MnHal2 (Hal = Cl, Br), FeHal2 (Hal = Br, I), CoHal2 (Hal = Br), NiHal2 (Hal = Cl, Br), ZnHal2 (Hal = Cl, Br, I), CdHal2 (Hal = Br), PrCl3, TmCl3 и халькогенидами металлов GaX (X = Se, Te), SnX (X = S, Te) и Bi2X3 (X = Se, Te). Разработаны методики синтеза, заключающиеся в заполнении нанотрубок расплавами этих веществ при температурах на ~100 градусов превышающих температуру плавления веществас последующим медленным охлаждением, которые позволили впервые сформировать внутри каналов ОСНТ нанокристаллы с упорядоченной структурой диаметром ~ 1 нм: FeBr2, FeI2, NiBr2, ZnI2, PrCl3, TmCl3, GaTe, Bi2Te3, SnTe. Установлено, что степень заполнения каналов нанотрубок и степень кристаллизации внедренных галогенидов и халькогенидов металлов повышается при увеличении радиусов анионов и катионов: в ряду хлорид-бромид-иодид 3d- и 4d-металла, при переходе от хлоридов 3d- и 4d-металлов к хлоридам 4f-металлов, а также в ряду сульфид-селенид теллурид металла. Выявлена зависимость электронной структуры ОСНТ от химической природы и электронной структуры внедренных в их каналы веществ. Установлено, что заполнение нанотрубок галогенидами и халькогенидами металлов, обладающими работой выхода, превышающей величину работы выхода незаполненных ОСНТ, приводит к акцепторному легированию нанотрубок, сопровождающемуся переносом зарядовой плотности со стенок ОСНТ на внедренные соединения и понижением уровня Ферми ОСНТ на ~ 0,1-0,6 эВ. При этом, для большинства электрон-акцепторных соединений характерно образование химической связи между стенкой нанотрубки и атомами металла. Для галогенидов 3d- и 4d-металлов величина сдвига уровня Ферми увеличивается в ряду иодид-бромид-хлорид металла. Кроме того, наблюдается тенденция уменьшения величины сдвига уровня

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".