|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Application of a high durability DC arc plasmatron to plasma processing of silicon substratesстатья
- Авторы: Riaby V.A., Plaksin V.Yu, Kim J.H., Mok Y.S., H-J Lee, Choi C.K.
- Журнал: Journal of Korean Forest Society
- Том: 48
- Номер: 6
- Год издания: 2006
- Первая страница: 1696
- Последняя страница: 1701
- Добавил в систему: Рябый Валентин Анатольевич