Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Study of spatial distributions of F, H and CF2 radicals in DF CCP discharge in Ar/CF4 and Ar/CHF3 mixtures
статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 22 апреля 2013 г.
Авторы:
Braginsky O.V.
,
Kovalev A.S.
,
Lopaev D.V.
,
Rakhimova T.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Vasilieva A.N.
,
Zyryanov S.M.
Журнал:
THIRD INTERNATIONAL WORKSHOP AND SUMMER SCHOOL ON PLASMA PHYSICS 2008 Book Series: Journal of Physics Conference Series
Том:
207
Номер:
Article Number: 012014
Год издания:
2010
DOI:
10.1088/1742-6596/207/1/012014
Добавил в систему:
Рахимов Александр Турсунович