|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Стойкость нанокомпозитов политетрафторэтилена с графеном к фотоокислению под действием вакуумного ультрафиолетового излучениястатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: ВН Василец, ЮМ Шульга, ЕН Кабачков, АВ Мележик, АГ Ткачёв
- Журнал: Химия высоких энергий
- Том: 55
- Номер: 4
- Год издания: 2021
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 281
- Последняя страница: 286
- DOI: 10.31857/s0023119321040148
- Аннотация: Процесс фотоокисления композитов политетрафторэтилена с графеном под действием монохроматического вакуумного ультрафиолетового излучения резонансной криптоновой лампы с длиной волны 123.6 нм в присутствии воздуха исследовали методами ИК-спектроскопии, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и контактного угла смачивания. Показано, что введение малых добавок графена (1–10 мас.%) в матрицу политетрафторэтилена приводит к значительному снижению скорости процесса фотодеструкции и, как следствие, к повышению эксплуатационных характеристик полимера в условиях фотоокисления.
- Добавил в систему: Кабачков Евгений Николаевич