Аннотация:Приведены основные результаты теоретического и экспериментального исследования параметров плазмы Ar/Cl2 и Ar/Cl2/О2в реакторе атомно-слоевого травления, исследования травления пленок Мо, W, Ru в хлорсодержащей плазме с in situконтролем непрерывного процесса травления и циклического атомно-слоевого травления пленки W во фторсодержащейплазме. Результаты расчета концентрации ионов, полученных с использованием разработанной двумерной гидродинамическоймодели хлорсодержащей плазмы ВЧИ разряда находятся в хорошем согласии с экспериментальными данными. Обнаруженосильное увеличение скорости травления Мо, W в хлорсодержащей плазме с увеличением энергии ионов. Показано, чтоиспользование in situ рефлектометрического метода определения скорости травления дает возможность контролироватьпроцесс травления на отдельных стадиях циклического атомно-слоевого травления металлов. Это способствует болеебыстрой его разработке. Кратко обсуждается механизм травления металлов в хлорсодержащей плазме.