|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Исследование ВУФ-излучения плазмы и структуры магнетронного разряда постоянного токастатья
- Авторы: Паль А.Ф., Рябинкин А.Н., Серов А.О., Лопаев Д.В., Манкелевич Ю.А., Рахимов А.Т., Рахимова Т.В.
- Журнал: Вестник Российского фонда фундаментальных исследований
- Том: 118
- Номер: 2
- Год издания: 2023
- Издательство: РФФИ
- Местоположение издательства: М.
- Первая страница: 105
- Последняя страница: 113
- DOI: 10.22204/2410-4639-2023-118-02-105-112
- Аннотация: Представлены результаты исследований плазмы магнетронного разряда постоянного тока, полученные в рамках проекта РФФИ №18-29-27001. Методом PIC MC исследована структура магнетронного разряда при давлениях 1–10 мТорр при токе разряда 0.5 А. Показано, что прикатодная область, где падает почти всё напряжение разряда, состоит из тонкого катодного слоя (0.1–0.2 мм) и широкого предслоя (~2 см), в котором происходит бо´льшая часть ионизаций. Отношение напряжений, падающих в слое и предслое, линейно увеличивается с давлением. Зависимость напряжения разряда от давления газа имеет минимум около 3 мТорр. При давлениях 2–12 мТорр измерена интенсивность вакуумного УФ (ВУФ) излучения. На подложке, расположенной в 10 см от катода, она составляет порядка 1015 фотонов/(см2с) при скорости осаждения покрытия 1.5 нм/с. Интенсивность пропорциональна току разряда и уменьшается с давлением.
- Добавил в систему: Лопаев Дмитрий Викторович