Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Mechanism of Improving Etching Selectivity for E-Beam Resist AR-N 7520 in the Formation of Photonic Silicon Structures
статья
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Fetisenkova Ksenia
, Melnikov Alexander,
Kuzmenko Vitaly
,
Miakonkikh Andrey
,
Rogozhin Alexander
,
Tatarintsev Andrey
, Glaz Oleg,
Kiselevsky Vsevolod
Журнал:
Processes
Том:
12
Номер:
9
Год издания:
2024
Издательство:
MDPI
Местоположение издательства:
Basel, Switzerland
Первая страница:
1
Последняя страница:
12
Номер статьи:
1941
DOI:
10.3390/pr12091941
Добавил в систему:
Татаринцев Андрей Андреевич