Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Babin S.
Соавторы:
Кузьмин И.Ю.
,
Борисов С.С.
,
Ito H.
,
Ivanchikov A.
,
Suzuki M.
,
Abe H.
,
Hakii H.
,
Hamaguchi A.
,
Hudek P.
,
Kadowaki M.
,
Miyano Y.
,
Nishiyama Y.
,
Yamabe M.
показать полностью...
,
Yamashita H.
,
Yamazaki Y.
,
Yonekura I.
,
Butomo V.
,
Christophe P.
,
Kwon G.
,
Lee C.H.
,
Matison D.
,
Mun D.Y.
,
Ocola L.E.
,
Oh J.H.
,
Peter Y.
,
Yoo H.W.
,
Грачев Е.А.
,
Милицин В.О.
,
Платоненко В.Т.
,
Черёмухин Е.А.
25 статей
,
1 доклад на конференции
,
1 членство в редколлегии журнала
Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 157, Scopus: 178
IstinaResearcherID (IRID): 3839806
Деятельность
Статьи в журналах
2010
Simulation of scanning electron microscope images taking into account local and global electromagnetic fields
Babin S.
,
Borisov S.
,
Ito H.
,
Ivanchikov A.
,
Suzuki M.
в журнале
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 28, с. C6C41
2009
Contrast reversal effect in scanning electron microscopy due to charging
Abe H.
,
Babin S.
,
Borisov S.
,
Hamaguchi A.
,
Kadowaki M.
,
Miyano Y.
,
Yamazaki Y.
в журнале
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 27, с. 1039-1046
2008
CHARIOT: software tool for modeling SEM signal and e-beam lithography
Babin S.
,
Borisov S.
,
Ivanchikov A.
в журнале
Physics procedia
, издательство
Elsevier
(United States)
, том 1, № 1, с. 305-313
2006
EBL resist heating error and its correction
Sergey Babin
,
Igor Kuzmin
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 6283, с. 62831Q
DOI
2004
Control of the angular structure of high-order harmonics
Batebi S.
,
Platonenko V.T.
в журнале
Quantum Electronics
, издательство
Turpion - Moscow Ltd.
(United Kingdom)
, том 34, № 1, с. 71-74
DOI
2004
Thermal analysis of diamondlike carbon membrane masks in projection electron-beam lithography
Babin S.
,
Butomo V.
,
Kuzmin I.Yu
,
Yamashita H.
,
Yamabe M.
в журнале
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 22, № 6, с. 3082-3086
2003
Thermal analysis of projection electron beam lithography using complementary mask exposures
Babin S.
,
Kuzmin I.
,
Yamashita H.
,
Yamabe M.
в журнале
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 21, № 6, с. 2691-2696
2002
Throughput optimization of electron-beam lithography in photomask fabrication regarding acceptable accuracy of critical dimensions
Babin Sergey V.
,
Kuzmin Igor Y.
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 4562, с. 545-551
2001
Comprehensive simulation of electron-beam lithography processes using PROLITH/3D and TEMPTATION software tools
Sergey Babin
,
Kuzmin Igor Yu
, Mack Chris A.
в журнале
Microelectronic Engineering
, издательство
Elsevier BV
(Netherlands)
, том 57, с. 343-348
1999
Simulation and measurement of resist heating in multipass exposure using a 50 kV variably shaped beam system
Babin S.
, Hartmann H.,
Kuzmin I.Yu
в журнале
Microelectronic Engineering
, издательство
Elsevier BV
(Netherlands)
, том 46, № 1-4, с. 231-234
1998
Comparative study of resist heating and proximity effect influence on CD variation in 30 kV EBL
Babin S.
,
Hudek P.
, Kostic I.,
Kuzmin I.Yu
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 3331, с. 83
1998
Experimental verification of the TEMPTATION (temperature simulation) software tool
Babin S.
,
Kuzmin I.Yu
в журнале
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
, издательство
AIP Publishing
(United States)
, том 16, № 6, с. 3241-3247
1998
Software for Temperature Simulation (TEMPTATION) in Electron-Beam Lithography
Babin S.
,
Kuzmin I.Yu
, Sergeev G.
в журнале
Microelectronic Engineering
, издательство
Elsevier BV
(Netherlands)
, том 41, с. 191
1997
CD-Variation in 30 kV EBL due to Resist Heating: Experiment and Simulation
Babin S.
,
Hudek P.
, Kostic I.,
Kuzmin I.Yu
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 3048, с. 368
1997
Simulation of Resist Heating in Electron Beam Lithography
Babin S.
,
Kuzmin I.Yu
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 3048, с. 374
1997
Software Tool for Temperature Simulation in Electron Beam Lithography: TEMPTATION
Babin S.
,
Kuzmin I.Yu
, Sergeev G.
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 3236, с. 464
1996
Advanced model for resist heating effect simulation in electron beam lithography
Babin S.
, Kozunov V.,
Kuzmin I.
в журнале
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 2884, с. 520
Статьи в сборниках
2012
CD-Metrology of EUV masks in the presence of charging: measurement and simulation
Babin S.
,
Borisov S.
,
Hakii H.
,
Nishiyama Y.
,
Yonekura I.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 844108
DOI
2012
CD-Metrology of EUV masks in the presence of charging: measurement and simulation
Babin S.
,
Borisov S.
,
Hakii H.
,
Nishiyama Y.
,
Yonekura I.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 844108
DOI
2012
CD-SEM and e-beam defect inspection of high-aspect ratio contact holes: measurement and simulation of precharge
Babin S.
,
Borisov S.
,
Kwon G.
,
Lee C.H.
,
Oh J.H.
,
Mun D.Y.
,
Yoo H.W.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
DOI
2012
Challenges of SEM metrology at sub-10nm linewidth
Babin S.
,
Borisov S.
,
Christophe Peroz
,
Peter Yushmanov
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 83240T
DOI
2010
Comprehensive simulation of SEM images taking into account local and global electromagnetic fields
Babin Sergey
,
Borisov Sergey S.
,
Ito Hiroyuki
,
Ivanchikov Andrei
,
Matison Dmitri
,
Militsin Vladimir
,
Suzuki Makoto
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 77290W-77290W-6
2010
Optimizing the detector configuration for SEM topographic contrast by using a Monte Carlo simulation
Suzuki Makoto
,
Borisov S.
,
Ito Hiroyuki
,
Babin Sergey;
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 772910-772910-7
DOI
2008
Experiment, simulation of charging effects in SEM
Babin S.
,
Borisov S.
,
Miyano Y.
,
Abe H.
,
Kadowaki M.
,
Hamaguchi A.
,
Yamazaki Y.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 692219-692219-7
2003
Software tool for advanced Monte Carlo simulation of electron scattering in EBL and SEM: CHARIOT
Babin S.V.
,
Borisov S.S.
,
Cheremukhin E.A.
,
Grachev E.A.
, Korol V.,
Ocola L.E.
в сборнике
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
, с. 583-590
DOI
Доклады на конференциях
2000
An advanced Monte Carlo model of electron scattering in EBL involving fast secondary and true secondary electrons
Авторы:
Shiriaev A.
,
Грачев Е.А.
,
Babin S.
,
Борисов С.С.
EIL-14P. Micro-and-Nano Engineering 2000
, Jena, Germany, Германия, 2000
Участие в редколлегии журналов
с 1 ноября 2014
Фотоника