Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Choi C.K.
Choi C.K.
IstinaResearcherID (IRID): 15225448
Статьи в журналах Статьи в сборниках
–

Статьи в журналах

    • 2006 Application of a high durability DC arc plasmatron to plasma processing of silicon substrates
    • Riaby V.A., Plaksin V.Yu, Kim J.H., Mok Y.S., H-J Lee, Choi C.K.
    • в журнале Journal of Korean Forest Society, том 48, № 6, с. 1696-1701

Статьи в сборниках

    • 2006 Fractional Diversion of Discharge Current into Conductive Bodies in Contact with Plasmas
    • Alexandrov A.F., Lee H.J., Choi C.K., Plaxin V.Yu, Riaby V.A., Savinov V.P.
    • в сборнике Conference Papers of Intern. Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, место издания China

ИСТИНА ИНХС РАН
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь