ИСТИНА

Vishnevskiy Alexey S.

Соавторы: Baklanov M.R., Naumov S., Vorotilov K.A., Рахимова Т.В., Attallah A.G., Butterling M., Hirschmann E., Liedke M.O., Seregin D.S., Vorotyntsev D.A., Wagner A., Богданова М.А., Зотович А.И. показать полностью..., Зырянов С.М., Лопаев Д.В., Палов А.П., Паль А.Ф., Рахимов А.Т., Резванов А.А., Рябинкин А.Н., Серегин Д.С., Серов А.О.

2 статьи

Количество цитирований статей в журналах по данным Scopus: 0

IstinaResearcherID (IRID): 468078189

Деятельность

• Статьи в журналах

  • 
    • 2023 Damage to OSG low‐ k films during IPVD deposition of the Ta barrier layer
    • Serov Alexander O., Ryabinkin Alexey N., Vishnevskiy Alexey S., Naumov Sergej, Pal Alexander F., Rakhimova Tatyana V., Seregin Dmitry S., Vorotilov Konstantin A., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале Plasma Processes and Polymers, издательство Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co. (Germany), том 20, № 4 DOI
  • 
    • 2022 Modification of Porous Ultralow-k Film by Vacuum Ultraviolet Emission
    • Zotovich Alexey I., Zyryanov Sergey M., Lopaev Dmitry V., Rezvanov Askar A., Attallah Ahmed G., Liedke Maciej O., Butterling Maik, Bogdanova Maria A., Vishnevskiy Alexey S., Seregin Dmitry S., Vorotyntsev Dmitry A., Palov Alexander P., Hirschmann Eric, Wagner Andreas, Naumov Sergej, Vorotilov Konstantin A., Rakhimova Tatyana V., Rakhimov Alexander T., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале ACS Applied Electronic Materials, издательство American Chemical Society (United States), том 4, № 6, с. 2760-2776 DOI